设备特点
-
- 自动化调平和对准
- 芯片和芯片之间调平和对准可自动化完成,避免繁琐耗时的手动校准,快捷高效,键合精度最高≤±300nm;
-
- 强大的芯片尺寸兼容能力
- 可兼容芯片尺寸跨度从0.4*0.4mm微型芯片至50*50mm大面阵芯片;
-
- 优异的快速升降温能力
- RT-450℃升温时间≤2.2s,支持气体冷却快速降温,从而减少热失配变形,避免bump间短路,并提高键合效率;
-
- 支持氢自由基活化
- H自由基可在180℃对Cu等金属材料表面进行低温还原,从而降低键合温度,提升键合质量;
规格参数
-
项目指标
-
样品尺寸选配1:0.4*0.4~30*30mm
选配2:0.4*0.4~50*50mm
(可定制 100*100mm) -
压力范围1-3000N
-
控压稳定性≤±0.5 N(1~50 N)
≤±2N(≥50 N) -
键合后精度≤ ±1 μm;≤ ±500 nm;≤ ±300 nm
-
压头控温范围RT~450℃
-
压头控温稳定性±0.5℃
-
压头升温速率(RT-450℃)6 s @ 52*52 mm; 2.2 s @ 32*32 mm
-
冷却方式气体冷却
-
键合腔体气氛惰性气氛、H自由基


















